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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆开发厂座落西北区域,主要是生產的8寸大光电器件晶圆,每日污废水 尾气排缩量上涨约800吨。根据生產的进程中便用许多盐酸做出晶圆蚀刻,导致污废水 中氟化物质量浓度达到了200-300mg/L,远超地方尾气尾气排放原则(10mg/L接下来)。 废污水基本成分及来原 生活污水主要是来这三个的环节: 晶圆蚀刻工步 :含高有机废气浓度氟化物(HF)、盐酸及一少部分天价属 检查是否机戒打磨抛光(CMP)废水处理 :含纳米级级硅颗粒剂、有机的络合剂 机的洗涤废水处理 :含异丙醇、氯离子等有机的物 治理 工艺技术方法 所采用"耐腐蚀析出+混疑析出+深浅筛选"两级处置平台: 考试内容一级整理 :加药氯化钙和氢氧化反应钙,养成氟化钙水解,氟化物弄掉率达85% 二级考试清理 :“添加PAC(汇聚氯化铝)和PAM(pe塑料酰胺),洗去胶体溶液态严重排放物 三级视频工作 :按照多媒质过虑器和亲水性炭活性炭吸附,冒水氟化物渗透压不稳在8mg/L一下 至关重要机械设备包含:pH智能上下调整模式、斜管沉积池、板框过滤机(生活污水脱水烘干)。 最中实际效果 活动正常运作一年监测技术数据报告出现: 氟化物人均密度:7.2mg/L(高出国度标准规定) COD洗去率:92% 飞灰含水分率:≤65% 年回收处理氟化钙副服务约150吨,确保影视资源化再生进行

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